塑料成型工藝中（zhōng）描述的拋（pāo）光與其他行業所需的（de）表（biǎo）麵拋（pāo）光有很（hěn）大不（bú）同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的（de）標（biāo）準。表麵（miàn）拋光通常僅需（xū）要光澤表麵。鏡像處理（lǐ）標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程（chéng）中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度（dù），由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表（biǎo）麵質量不是必需的，精密模具（jù）主要（yào）是基於機械拋光。 。

　　1、半精細（xì）拋光主要使用（yòng）砂紙實驗室和煤油（yóu）協會。

　　2、精（jīng）密拋光主要（yào）製作金剛石膏。通常（cháng）的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是（shì）在殼（ké）體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏（gāo）你可以使用方向盤（pán）。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光（guāng）模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾（tuò）液可能具有高精度拋（pāo）光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質量的（de）拋光（guāng）效果（guǒ），最重要的是（shì）要（yào）有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一個複雜的工（gōng）作環境，需要一個潔淨室。拋（pāo）光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機（jī）械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可（kě）以（yǐ）被選擇在（zài）35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波（bō）粉碎機旋轉。常見的方法是使用直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的（de）輪子去（qù）除（chú）白（bái）色火花層。然後手動油石磨，金剛石（shí）

砂（shā）岩和煤油條作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑。一般使（shǐ）用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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